光刻胶技术

光致抗蚀剂是一种光敏感材料，用作光刻和光刻等一些现代工艺的一部分，以在表面上形成设计的涂层。

 光刻胶技术相关期刊

植物科学趋势、植物生物学、国际植物生物学杂志、功能植物生物学、植物生物学年度评论。